陶瓷原料中還有大量的二氧化硅，隨著化工技術(shù)的發(fā)展，這些二氧化硅經(jīng)過(guò)一系列處理流程可以發(fā)揮更大的效用，文章主要是介紹對(duì)陶瓷原料中二氧化硅工業(yè)管理技巧。

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　　氟硅酸鉀容量法是將試樣用堿熔融，不溶性酸性氧化物二氧化硅轉(zhuǎn)變成可溶性的硅酸鹽，加酸后生成游離的硅酸，在過(guò)量的氟離子和鉀離子存在下，硅酸與氟離子作用形成氟硅酸離子，進(jìn)而與鉀離子作用生成氟硅酸鉀沉淀。該沉淀在熱水中會(huì)水解生成氫氟酸，用氫氧化鈉標(biāo)準(zhǔn)溶液滴定，由消耗的氫氧化鈉標(biāo)準(zhǔn)溶液的體積計(jì)算二氧化硅的含量。

　　1引 言

　　在傳統(tǒng)陶瓷中，SiO2是陶瓷坯體的主要化學(xué)成分，是硅酸鹽形成的骨架，它的存在可以提高陶瓷材料的熱穩(wěn)定性、化學(xué)穩(wěn)定性、硬度、機(jī)械強(qiáng)度等，從而直接影響陶瓷產(chǎn)品的生產(chǎn)工藝和使用性能，同時(shí)SiO2也是各種釉料配方的重要參數(shù)。因此，準(zhǔn)確測(cè)定陶瓷原料中SiO2的含量，對(duì)陶瓷和釉料生產(chǎn)非常重要，它關(guān)系到原材料的用量、產(chǎn)品的質(zhì)量和性能等。

　　不同的陶瓷原料，其SiO2的含量不同，測(cè)量方法也有多種。本文對(duì)陶瓷原料中SiO2的常見(jiàn)檢測(cè)方法逐一作了介紹。

　　2氫氟酸揮發(fā)法

　　2.1 硫酸-氫氟酸法

　　當(dāng)試樣中的SiO2含量在98%以上時(shí)，可采用此法。具體方法如下：將測(cè)定灼燒減量后的試料加數(shù)滴水濕潤(rùn)，然后加硫酸(1+1)0.5ml，氫氟酸(密度1.14g/cm3)10ml，蓋上坩堝蓋，并稍留有空隙，在不沸騰的情況下加熱約15min，打開(kāi)坩堝蓋并用少量水洗二遍(洗液并入坩堝內(nèi))，在普通電熱器上小心蒸發(fā)至近干，取下坩堝，稍冷后用水沖洗坩堝壁，再加氫氟酸(密度1.14g/cm3)3ml并蒸發(fā)至干，驅(qū)盡三氧化硫后放入高溫爐內(nèi)，逐漸升高至950～1000℃，灼燒1h后，取出置于干燥器中冷至室溫后稱量，如此反復(fù)操作直至恒重。二氧化硅含量的計(jì)算公式如下：

　　SiO2(%)=(m1-m2)/m ×100

　　式中：

　　m1 —— 灼燒后坩堝與試料的質(zhì)量，g

　　m2 —— 氫氟酸處理后坩堝的質(zhì)量，g

　　m —— 試料的質(zhì)量，g

　　2.2硝酸-氫氟酸法

　　當(dāng)試樣中的SiO2含量大于95%而小于或等于98%時(shí)，可采用此方法。具體如下：

　　(1) 將試料置于鉑坩堝中，加蓋并稍留縫隙，放入 1000～1100℃高溫爐中，灼燒1h。取出，稍冷，放入干燥器中冷至室溫，稱量。重復(fù)灼燒，稱量，直至恒重。

　　(2) 將坩堝置于通風(fēng)櫥內(nèi)，沿坩堝壁緩慢加入3ml硝酸、7ml氫氟酸，加蓋并稍留縫隙，置于低溫電爐上，在不沸騰的情況下，加熱約30min(此時(shí)試液應(yīng)清澈)。用少量水洗凈坩堝蓋，去蓋，繼續(xù)加熱蒸干。取下冷卻，再加5ml硝酸、10ml氫氟酸并重新蒸發(fā)至干。

　　(3) 沿坩堝壁緩緩加入5ml硝酸蒸發(fā)至干，同樣再用硝酸處理兩次，然后升溫至冒盡黃煙。

　　(4)將坩堝置于高溫爐內(nèi)，初以低溫，然后升溫至1000～1100℃灼燒30min，取出，稍冷，放入干燥器中冷至室溫，稱量。重復(fù)灼燒，稱量，直至恒重。二氧化硅含量的計(jì)算公式如下：

　　SiO2(%)=[(m1-m2)+(m3-m4)]/m×100

　　式中：

　　m1——試料與坩堝灼燒后的質(zhì)量，g

　　m2——氫氟酸處理并灼燒后殘?jiān)�與鉑坩堝的質(zhì)量，g

　　m3——試劑空白與鉑坩堝的質(zhì)量，g

　　m4——測(cè)定試劑空白所用鉑坩堝的質(zhì)量，g

　　m ——試料的質(zhì)量，g

　　3重量-鉬藍(lán)光度法

　　重量-鉬藍(lán)光度法所測(cè)定的范圍是SiO2含量小于95%。具體如下：

　　(1) 對(duì)可溶于酸的試樣，可直接用酸分解;對(duì)不能被酸分解的試樣，多采用Na2CO3作熔劑，用鉑坩堝于高溫爐中熔融或燒結(jié)之后酸化成溶液，再在水浴鍋上用蒸發(fā)皿蒸發(fā)至干，然后加鹽酸潤(rùn)濕，放置一段時(shí)間后，加入動(dòng)物膠，使硅酸凝聚，攪勻，放置5min，用短頸漏斗、中速濾紙過(guò)濾、濾液用250ml容量瓶承接。將沉淀全部轉(zhuǎn)移到濾紙上，并用熱鹽酸洗滌沉淀2次，再用熱水洗至無(wú)氯離子。

　　(2) 將沉淀連同濾紙放到鉑坩堝中，再放到700℃以下高溫爐中，敞開(kāi)爐門(mén)低溫灰化，待沉淀完全變白后，開(kāi)始升溫，升至1000℃～1050℃后保溫1h取出，稍冷即放入干燥器中，冷至室溫，稱量。重復(fù)灼燒，稱量，直至恒重。

　　(3) 加數(shù)滴水潤(rùn)濕沉淀，加4滴硫酸、10ml氫氟酸，低溫蒸發(fā)至冒盡白煙。將坩堝置于1000～1050℃高溫爐中灼燒15min，取出稍冷，即放入干燥器中，冷至室溫，稱量。重復(fù)灼燒，稱量，直至恒重。

　　(4) 加約1g熔劑到燒后的坩堝中，并置于1000～1050℃高溫爐中熔融5min，取出冷卻。加5ml鹽酸浸取，合并到原濾液中，用水稀釋到刻度，搖勻。此溶液為試液A，用于測(cè)定殘余二氧化硅、氧化鋁、氧化鐵和二氧化鈦。

　　(5) 用移液管移取10ml試液A于100ml容量瓶中。加入10ml水、5ml鉬酸銨溶液，搖勻，于約30℃的室溫或溫水浴中放置20min。

　　(6) 加入50ml乙二酸-硫酸混合溶液，搖勻，放置0.5～2 min，加入5ml硫酸亞鐵銨溶液，用水稀釋至刻度，搖勻。

　　(7) 用10mm吸收皿，于分光光度計(jì)690nm處，以空白試驗(yàn)溶液為參比測(cè)量其吸光度。二氧化硅的值由繪制的工作曲線上查得。二氧化硅含量的計(jì)算公式如下：

　　SiO2(%)=[m1-m2+m3(V/V1)-(m4-m5)]/m×100

　　式中：

　　m1 —— 氫氟酸處理前沉淀與坩堝的質(zhì)量，g

　　m2 —— 氫氟酸處理后沉淀與坩堝的質(zhì)量，g

　　m3 —— 由工作曲線查得的二氧化硅量，g

　　m4 —— 氫氟酸處理前空白與坩堝的質(zhì)量，g

　　m5 —— 氫氟酸處理后空白與坩堝的質(zhì)量，g

　　V1 —— 分取試液的體積，ml

　　V —— 試液總體積，ml

　　m —— 試料的質(zhì)量，g

　　4氟硅酸鉀容量法

　　重量-鉬藍(lán)光度法的準(zhǔn)確度較高，但對(duì)于一些特殊樣品，如螢石CaF2，由于含有較大量的氟，會(huì)使試樣中的Si以SiF4形式揮發(fā)掉，不能用重量法測(cè)定。還有重晶石以及鋯含量較高的樣品、鈦含量較高的樣品，在重量法的條件下形成硅酸的同時(shí)，會(huì)生成其它沉淀，夾雜在硅酸沉淀中。所以這些特殊樣品不能用重量法測(cè)定，可用氟硅酸鉀容量法來(lái)測(cè)定SiO2的含量。

　　應(yīng)用該分析方法時(shí)應(yīng)嚴(yán)格控制分析條件，具體應(yīng)注意以下幾點(diǎn)：

　　(1) 樣品的處理是先用氫氧化鈉熔融，然后用水浸取，再加鹽酸酸化，然后得到樣品溶液。當(dāng)樣品中鋁、鈦含量較高時(shí)，為防止氟鋁酸鈉和氟鈦酸鈉沉淀的生成，可用氫氧化鉀代替氫氧化鈉。氫氟酸揮發(fā)法歷來(lái)被認(rèn)為是趕硅的一種方法，但實(shí)踐證明，在一定的條件下，四氟化硅和氫氟酸能共處于同一溶液中，因此，在溶解過(guò)程中，只要控制一定的體積，硅即以氟硅酸的形式留在溶液中，從而可測(cè)定硅的含量。

　　(2) 為了保證硅的沉淀完全，加入氟化鉀和氯化鉀的量應(yīng)過(guò)量。但氟化鉀和氯化鉀的量若過(guò)大，則當(dāng)樣品中的鋁、鈦含量較高時(shí)干擾情況比較嚴(yán)重。一般在鋁、鈦含量不高時(shí)，50ml溶液加氟化鉀1.5～2.0g;而鋁、鈦含量較高時(shí)加1～1.5g。氯化鉀的加入量還與沉淀時(shí)的溫度有關(guān)。20℃時(shí)，50ml溶液加8g氯化鉀;高于25℃則需加入10g以上。

　　(3) 沉淀時(shí)為減少沉淀的溶解和沉淀的洗滌困難，溫度應(yīng)低于30℃，體積不大于50ml，沉淀應(yīng)在放置15min后過(guò)濾。

　　(4) 測(cè)定的干擾一般來(lái)自鋁、鈦，對(duì)高鋁和高鈦的試樣可加入氯化鈣、過(guò)氧化氫、草酸銨、草酸和熔樣用的氫氧化鉀來(lái)代替氫氧化鈉、用硝酸代替鹽酸作介質(zhì)的方法來(lái)消除干擾。

　　氟硅酸鉀容量法具有快速、準(zhǔn)確、精密度高的特點(diǎn)，因此廣泛應(yīng)用于陶瓷生產(chǎn)中的控制分析。