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桂林市永利制蓋有限公司廠區土洞發育機制淺析及治理

所屬欄目:行政管理論文 發布日期:2010-12-23 08:43 熱度:

  [摘要]以桂林市永利制蓋有限公司廠區為例,簡要分析了場址區土洞發育機制及帶來的危害,提出了治理的方法。
  關鍵詞:土洞、發育機制、治理
  一、概況
  桂林市永利制蓋有限公司廠區位于臨桂縣魯山工業區劃1#道路與2#道路交叉處,廠區占地面積13307.84平方米,規劃建設辦公室、綜合樓、廠房、車間、車庫等。場址詳勘過程鉆探52孔,其中4孔遇土洞,狀態為半充填及全空狀態,最大凈空高度達2.6米,場址區分布塌陷漏斗(落水洞)5處,呈線狀分布,該不良地質現象對場地擬建建筑物地基穩定性存在嚴重隱患。
  二、土洞發育一般地質條件歸納
  2.1土洞的概念
  在可溶性巖層以上覆蓋土層中,由于地表水的滲透及地下水的潛蝕作用形成的向上及周邊擴展的空穴或極疏松軟弱區稱為土洞。
  2.2土洞發育一般條件
  理論研究和長期實踐經驗反映,土洞發育場址一般具備以下全部或某一特征:
  ①、場址所在區域下伏基巖多為可溶性巖層如石灰巖、石膏層等;
  ②、場址所在區域地下水儲量比較豐富,具有足夠溶解能力;
  ③、場址所在區域地表水存在下滲作用,有通暢的滲透流動途徑;
  ④、場地基巖面以上分布土層多為第四系較疏松、多孔隙或裂隙欠固結狀土。
  三、永利制蓋有限公司廠區土洞發育機制及發展趨勢預測
  1、土洞發育機制
  永利制蓋有限公司廠區地貌單元屬巖溶平原,下伏巖層為泥盆系上統可溶性石灰巖,覆蓋地層從上而下依次為①素填土、②耕表土、③第四系粉質粘土、④第四系粘土。鉆探及開挖顯示,場址內ZK9、ZK10、ZK13、ZK14、ZK16、ZK28、ZK33、ZK36、ZK41鉆孔位淺層巖溶比較發育,局部溶蝕成槽穴狀,勘察控制深度內巖芯均見明顯溶蝕痕跡,經踏勘,場地內沿鉆探所揭露的溶槽走向線附近分布有新近塌陷漏斗5個,鉆孔ZK41、ZK36、ZK36-2、ZK13所揭露的土洞,主要分布在塌陷漏斗走向線的上部和翼側(見附后圖)。
1.jpg
  從區域地質資料分析,桂林市地層在地質歷史發展中主要經歷了印支運動、燕山運動和喜馬拉雅運動,在構造運動的影響下,形成了一系列形跡較為復雜的褶皺和斷裂,在漫長的地質年代中經多次抬升、擠壓和持續的溶蝕、破壞作用,形成了現今千姿百態的巖溶地貌。永利制蓋有限公司廠址區臨近主要構造有南北走向的擠壓逆斷層,分布在場址區以西約1.5公里處(見附后圖),
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  桂林永利制蓋有限公司場址所在地區域地質構造圖
  受地殼演化過程構造運動影響,下伏基巖裂隙較為發育(鉆探有揭露),這為地下水的儲存提供了良好的地質環境。新近塌陷漏斗的連續出現證實了該場地地下水較為活躍,巖石裂隙連通性較好,具備良好滲流途徑。該場址區地下水位受季節性反復升降以及周邊生產區人為取水影響,存在頻繁升降,對土體形成塌陷坑和土洞起關鍵性作用,在水位升高時,土體與水接觸,被逐漸濕化,原始微粒結構發生崩解,在巖、土交界面附近形成松軟土帶;在水位降到基巖面以下的過程,地下水的滲流對松軟土產生潛蝕、搬運的作用,攜帶走土層中小粒徑顆粒,導致滲流帶土層疏松,起到為地表水的下滲疏通途徑的作用,持續的下滲作用不但鞏固前期潛蝕作用的成果,同時使潛蝕作用持續發生和不斷擴展,二者的共同作用,最終導致了局部地段土洞的出現。場地溶蝕塌陷漏斗是土洞不斷擴展、最終貫穿上覆地層的結果。
  2、場地土洞發展趨勢預測
  由于廠址區場地受附近南北向逆斷層影響,巖石裂隙發育、場地地下水活躍,并具有一定規模,廠址區附近村民及其它工廠人為抽取地下水,正在不斷加劇地下水的活動性,致使地下水潛蝕作用會持續和加強,最終導致土洞的規模和范圍會不斷擴大。臨近場地是桂林市腐乳廠新廠區,地質情況類似于該場地,該廠建成后在廠區內打一水井供生產用水,抽水一段時間后,廠區內出現了多處塌陷下沉。
  四、土洞治理
  總結有關類似場地治理經驗,土洞的治理必須采取防治結合的路子,防止土洞的擴展必須禁止在廠址廠區及附近打井,禁止連續大量抽取地下水。對已形成的土洞筆者認為可采用灌填法或壓力灌漿處理。處理方法如下:
  ①、 灌填法
  在土洞范圍內按網格狀布置鉆孔,鉆孔間距1~2米,孔徑90-168
  毫米,鉆孔深度以鉆穿洞頂為準,在鉆孔中下入導管,沿導管灌填砂礫、碎石,對于已經穿透的土洞(塌陷漏斗),可往其中灌入混凝土,由于洞內地下水或其它充填物的阻力及灌填物料有休止角,洞體難以填滿,故在灌填完畢后,還應進行壓力灌漿,注漿材料采用普通硅酸鹽水泥,水灰比1:0.5,注漿壓力1-2MPa,施工順序先四周后中間。
  ②、 壓力灌漿法
  在土洞范圍內按網格狀布置鉆孔,鉆孔間距1-2m,孔徑Ф≥91mm,
  在鉆孔中下入導管,封住孔口,用泥漿泵沿導管壓入水泥漿,水灰比1:0.5,注漿壓力0.5-2MPa,施工順序先四周后中間,若流量大吸漿快速,水灰比調整為1:1,也可分批間歇灌注或添加適量水玻璃、粉煤灰等材料。
  五、治理效果檢測
  在填灌或壓力灌漿結束7d后,可在土洞范圍內適當布置鉆孔進行抽檢,若采用填灌法處理,可選用重型動力觸探檢測,若采用壓力灌漿處理可選用輕型動力觸探檢測或是標準貫入試驗檢測。
  六、結束語
  地下水的活動性是形成土洞的主導因素,巖溶地區開采地下水不當,是工程建設的一大隱患,應予以高度重視,同時土洞的發育是一個持續擴展的過程,治理土洞必須尋根溯源,防治結合。
  
  參考文獻和技術規范:
  常士驃主編《工程地質手冊》第三版
  《既有建筑地基加固技術規范》JGJ123-2000
  《建筑地基處理技術規范》JGJ79-2002、J220-2002
  《廣西壯族自治區區域地質調查—桂林幅》1:20萬

文章標題:桂林市永利制蓋有限公司廠區土洞發育機制淺析及治理

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